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林庆煌博士

2014年8月和2015年3月，清华大学化工系校友、美国IBM Thomas J. Watson研究院研究员林庆煌博士先后当选2014年美国化学会会士（ACS Fellow）和2015年美国化学会高分子材料协会会士（PMSE Fellow）。

美国化学学会会士（ACS Fellow）是美国化学会于2008年12月设立的荣誉称号，用于表彰在科学，化学化工行业和对美国化学会做出杰出成就或贡献的会员。自2009年起，美国化学会在全球约十二万名会员中每年仅评选出约一百名会士，全球至今仅有860名美国化学会会士，其中有诺贝尔奖获得者Ahmed H. Zewail，著名教授哈佛大学的George M. Whitesides院士，MIT的Robert S. Langer院士等。2014年，美国化学会新增会士99名。林庆煌博士于2014年8月在美国旧金山市召开的美国化学会秋季年会颁奖仪式上，被正式授予美国化学会会士证书。

2014年8月11日，林庆煌博士（左）在美国旧金山市召开的美国化学会秋季年会颁奖仪式上，接受美国化学会前主席，Marinda L Wu博士（右）颁发的美国化学会会士证书。

美国化学会高分子材料协会会士（ACS Fellow）是美国化学会高分子材料协会于2000年设立的荣誉称号， 用于表彰在高分子材料科学和工程领域做出杰出贡献的极少数会员。自2000年起，美国化学会高分子材料协会每年在全球会员中评选出2至8名会士。林庆煌博士同MIT、康奈尔等大学的4位教授，于2015年3月在美国丹佛市召开的美国化学会春季年会上，被正式授予美国化学会高分子材料协会会士奖牌。

2015年3月25日，林庆煌博士（后排右）在美国丹佛市召开的美国化学会春季年会上，与其他2015年美国化学会高分子材料协会会士合影。前排左至右：康奈尔大学Uli Wiesner教授，凯斯西储大学Hatsuo Ishida教授， 麻省理工学院Gregory C. Rutledge教授；后排左至右：美国国家标准局Christopher Soles博士（美国化学会高分子材料协会秘书长），Clark大学Sergio Granados-Focil教授（美国化学会高分子材料协会主席），IBM Thomas J. Watson研究院林庆煌博士。

林庆煌博士从事半导体（集成电路，芯片）研究近二十年，是半导体芯片行业的专家，应邀任中国集成电路材料产业技术创新战略联盟特聘专家。曾参与或主持0.25微米至7纳米十代CMOS 和 DRAM 的研发及其他探索性科研项目，具有研究、开发、工程、管理和技术战略决策的广泛经验。林博士拥有75项已受权美国专利，另外还有约70项待受权美国专利，他是23项IBM杰出发明成就奖的获得者。林博士已发表学术论文60余篇，编辑出版专著6部，学术会议论文集9部。他是国际学术期刊Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS的副主编和Journal of Materials Research的客座主编。2002年，林博士因发明，开发并实施248纳米双层光刻胶技术，获IBM技术成就奖。这项技术突破作为四十年来IBM对世界半导体行业的主要技术贡献之一，获得由总统颁发的美国最高技术奖——2004年美国国家技术勋章。林博士发明的技术被广泛用于生产制造高端服务器，流行手机中的尖端芯片。

林庆煌博士1980年考入清华大学化学工程系高分子专业，分别于1985年和1988获得学士学位和硕士学位；1990年进入美国密歇根大学材料系学习，于1994年获博士学位；1995年在美国得克萨斯大学奥斯汀分校化工系C. Grant Willson院士的研究组进行博士后工作；1995年底，林博士进入美国IBM公司工作至今。多年来，林庆煌博士热心促进中美高端学术交流，曾邀请安排七人次诺贝尔奖获得者到清华大学、北京大学、复旦大学、厦门大学、南京大学、浙江大学和中国科学院等单位访问交流。2008年，他共同创办“中国国际半导体技术大会”，并于2012年，2013年担任大会主席。2012年，他发起并与中国化学会高分子委员会共同创办高端“中美高分子前沿论坛”，至今已轮流在中美连续举行四届。林博士现担任美国化学会高分子材料协会当选主席，据了解，他是美国化学会高分子材料协会成立九十年来，第一位当选主席的华人。